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新聞詳情

PTFE熱裂解工藝

日期:2024-11-23 00:32
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摘要:

PTFE熱裂解工藝


把高分子量PTFE置於450℃以上裂解成小分子氟化物,如TFE、HFP、HF、八氟環(huán)丁烷、氟代光氣、全氟異丁烯。

       把高分子量PTFE置於450℃以上裂解成小分子氟化物,如TFE、HFP、HF、八氟環(huán)丁烷、氟代光氣、全氟異丁烯。此外,還有由裂解生成或由裂解產(chǎn)物二次反應(yīng)產(chǎn)生的大量氣態(tài)物。其中某些氣體有腐蝕性或有毒。改變裂解條件(溫度、反應(yīng)時(shí)間、壓力、催化劑等),可以得到不同濃度的、大量的齊聚物和聚合的氟化碳?xì)浠衔镆约按罅苛呀鈿?。得到的低分子量PTFE,然後進(jìn)行磨切、乾燥處理,可以得到7~10um的均勻粉末。         
       ARAMAKI提出含氟樹脂在熔點(diǎn)-600℃加熱,氛圍氣溫在200~550℃下,至少與分子氟、三氟化氮、鹵化氟化物及稀釋的氟化物的一種接觸反應(yīng),產(chǎn)生的反應(yīng)氣體冷卻到100℃以下,析出、分離或捕集含氟樹脂的低分子量物料。稀釋劑一般用氮?dú)?、氬氣、氦氣、四氟化碳等不活潑性氣體。該方法的特點(diǎn)是用氟化劑反應(yīng),與以前的熱分解產(chǎn)生大量不飽和極毒氣體相比,副產(chǎn)氣體在氟化能力強(qiáng)的氟化劑中進(jìn)行,反應(yīng)中產(chǎn)生極少的副產(chǎn)氣體。副產(chǎn)氣體為CF4、C2F6、C3F8等。HOSOKAWA公開了熔點(diǎn)在313~330℃的未燒結(jié)的PTFE粉末,在比熔點(diǎn)低70℃到熔點(diǎn)範(fàn)圍內(nèi)在空氣或惰性氣體中進(jìn)行加熱處理,粉碎粉末,得到平均粒徑1~30um、比表麵積2~6m/g的PTFE粉末。富永茂武用在石墨、矽或鋁、鎂等金屬和碳化矽這類化合物的存在下,進(jìn)行PTFE熱分解。熱分解時(shí)產(chǎn)生的氟氣與石墨、矽結(jié)合,得到能回收有用的氟化合物。

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